热门爆款 EBARA荏原干式真空泵ESA系列
可解决所有真空方案
可定制产品
部分型号大量现货
日本原装
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排气速度：50Hz 时为 1400L/min，60Hz 时为 1700L/min。

到达压力：50Hz 时为 400Pa，60Hz 时为 270Pa。

连接口径：进气口为 NW40，排气口为 NW40。

电源：200V 型号为 3 相 / 200V/50Hz 或 3 相 / 200-220V/60Hz；400V 型号为 3 相 / 380-400V/50Hz 或 3 相 / 380-440V/60Hz。

冷却水流量：3.5-8L/min。

温度：最高 30℃。

N₂流量：14-17Pa•m³/s(4.6)。

电源容量：6.4kVA。

紧凑设计：属于 10000L/min 以下的型号，设计紧凑，占地面积小，便于安装和使用，能适应空间有限的工作环境123。

耐腐蚀性能：可选择耐腐蚀材料选项，有效抵抗腐蚀性气体的侵蚀，延长设备使用寿命，适用于处理具有腐蚀性的气体环境123。

轻气体排气能力：特别适合氢气等轻气体的排气，能够高效地将轻气体排出，满足相关工艺对轻气体处理的要求123。

低噪音与低振动：运行时产生的噪音和振动水平较低，不仅为操作人员创造了较为安静的工作环境，也有助于减少设备振动对周围设备和设施的影响123。

半导体制造：在半导体生产过程中，如 MO-CVD（金属有机化学气相沉积）工艺，需要处理大量的氢气等轻气体，ESA15-D 能够满足大流量轻气体的排气需求，确保工艺的稳定性和产品质量123。

液晶显示（LCD）制造：适用于 LCD 溅射设备，在溅射过程中，可快速排出腔室内的气体，实现高速排气，有助于提高溅射薄膜的质量和均匀性123。

真空镀膜：在真空镀膜工艺中，需要将镀膜腔室抽至一定的真空度，ESA15-D 可以快速有效地抽出腔室内的气体，为镀膜过程提供稳定的真空环境，保证镀膜的质量和效果4。