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全真空范围覆盖能力：从 VDN 系列的 10⁻²Pa 级粗真空，到离子泵的 10⁻⁹Pa 级超高真空，可适配从食品包装到量子计算的全场景需求。
工况适应性强：部分干泵的转子和腔体采用氮化硅涂层，可耐受 HCl、H₂SO₄等强腐蚀性气体；针对高温工艺，一些型号通过优化冷却系统，可稳定处理 200℃以上的工艺尾气。
智能化与节能革新：部分型号采用变频驱动技术，在极限压力下功耗大幅降低，较传统机型节能 30% 左右；集成传感器实时监测油温、振动等参数，通过 AI 算法提前预警故障，平均时间延长至 8000 小时以上。
模块化与易维护性：一些系列采用模块化结构，油窗、滤芯等易损件可在较短时间内完成更换，降低了停机成本。
半导体制造：为芯片刻蚀、镀膜等工艺提供真空环境，如 MS 系列干泵可在 5nm 芯片刻蚀工艺中稳定处理 CF₄等离子体，颗粒过滤效率达 99.99%。
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