EBARA荏原干式真空泵 半导体 高真空
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EBARA荏原干式真空泵 半导体 高真空
EBARA荏原干式真空泵 半导体 高真空
 

• 性能参数2

• 抽气速度：1800L/min，能够快速有效地抽取气体，提高工作效率。

• 极限压力：可达 5Pa，可满足对真空度要求较高的工艺需求。

• 功率：极限压力下的近似功率值为 1.2kW，相比同类型产品，节能效果明显。

• 电源：有 3 相 / 200V/50Hz、3 相 / 200-220V/60Hz 以及 3 相 / 380-400V/50Hz、3 相 / 380-440V/60Hz 多种电源规格可供选择，适配不同的工作环境。

• 外形尺寸：370×770×450mm，整体结构较为紧凑，占地面积小，便于安装和布置。

• 质量：170kg，质量适中，方便运输、安装和维护。

• 冷却水流量：3-8L/min，温度最多 30℃，通过合理的冷却水流量和温度控制，保证泵的稳定运行。

• 氮气流量：26-31Pa・m³/s，为泵的运行提供必要的氮气支持。

• 产品特点

• 高节能性：采用优良的设计和技术，如根部转子装置与高扭矩电动机和逆变器的结合，使泵在运行过程中能耗低，节能，有效降低使用成本68。

• 高负荷适应性：专为苛刻的过程应用而设计，具有独特的温度控制和按需转矩运行能力，能够在高负载条件下稳定运行，满足半导体、液晶、太阳能电池制造等行业中高负荷工艺的需求68。

• 耐腐蚀性能好：标准采用耐腐蚀性材料，还可提供进一步的耐腐蚀性改进选项，能够有效抵抗蚀刻、CVD 等工艺中产生的腐蚀性气体的侵蚀，延长泵的使用寿命，确保运行安全可靠2。

• 智能控制：搭载高性能通信机能，采用高度制御方式，具备 - 9 保持功能和 -Δ 履历分化功能，可实现对泵的远程监控和精确控制，方便操作和管理，提高生产过程的自动化程度1。

• 清洁无油：干式设计，避免了润滑油对工艺过程的污染，符合半导体、制药等对洁净度要求的行业的生产需求，能够提供无油的真空环境，保证产品质量5。

• 运行稳定可靠：多阶段叶瓣设计，相比螺杆式真空泵具有更高的氢气抽速，且运行更加稳定，能够提供可靠的真空度，减少设备故障和停机时间3。

• 灵活便捷：在 50Hz 和 60Hz 不同频率下具有相同的性能，适用性强；同时，泵的安装和维护较为方便，模块化设计便于快速更换部件，缩短维修时间，降低维护成本25。

• 应用领域5

• 半导体制造：在离子注入、外延生长、光刻等工艺中，为其提供无油、高真空度的环境，防止晶圆污染，保证半导体器件的质量和性能。

• 新能源电池生产：用于锂电极片干燥、电解液注液等环节，避免油蒸汽对电池性能的影响，其低振动设计也可保护精密设备，有助于提高电池的生产质量和一致性。

• 化工领域：可用于处理挥发性有机物（VOCs）回收，耐腐蚀的泵体能够抵抗酸性气体侵蚀，直接排大气设计还可简化废气处理流程，同时也适用于其他需要真空环境的化工工艺，如蒸馏、萃取等。

• 其他领域：还广泛应用于一般真空、光伏、液晶显示等行业，如在光伏产业的硅片制造、薄膜沉积等工艺中，以及液晶显示面板生产中的镀膜、封装等环节，都能发挥重要作用，为这些行业的生产过程提供稳定可靠的真空支持。