荏原 EBARA EST10N 干式螺杆真空泵 完整产品介绍

一、核心定位与技术原理

• 类型：干式螺杆真空泵（双螺杆啮合，无油润滑），泵腔全程无油，杜绝真空污染

• 核心设计：泵腔主动高温控温（标配加热），维持内部气体温度，防止工艺副产物（如 SiO₂、聚合物、金属粉尘）冷凝、结晶、黏附堵塞转子与流道，大幅降低维护频率

• 结构：双等螺距螺杆转子，同步齿轮驱动，间隙精密控制；泵体 / 转子采用耐蚀合金（标准 Niresist 高镍铸铁），可选镍涂层 / 镍合金升级，耐受 HCl、HF、NH₃、SiH₄等腐蚀气体

二、核心性能参数（N₂，标准工况）

三、核心技术优势

1. 高温抗堵设计（核心卖点）

   泵腔内置加热 + 温控，维持内部高温，从根源避免 CVD、ALD、MOCVD 等工艺副产物沉积，减少拆洗、延长连续运行周期，降低停机维护成本

• 强耐腐蚀性

  标准 Niresist 高镍铸铁，可选镍合金 / 镍涂层；流道光滑、，减少粉尘堆积，适配强腐蚀、含粉尘工艺气体

• 智能变频控制

  搭载LCD 可编程控制器：支持转速自动调节（匹配工艺气体负荷）、实时压力 / 温度 / 电流监控、多级预警 / 报警、故障代码存储、远程通讯（RS485），便于集成与运维

• 清洁无油 + 高可靠性

  纯干式运行，无油雾、无返油，满足半导体 / 光伏 / LED 的超洁净真空要求；轴承与齿轮箱独立润滑、与泵腔隔离，寿命长、故障率低

• 合规认证

  符合 CE、SEMI-S2、NRTL 半导体行业安全标准，适配洁净室与制程设备

四、典型应用场景

• 半导体制造：CVD（LPCVD/PECVD/HDP-CVD）、ALD、蚀刻、PVD、离子注入、RTP

• 光电显示：LED/OLED MOCVD、蒸镀、封装

• 光伏：晶硅 / 薄膜电池沉积、镀膜

• 科研 / 分析：电子显微镜、质谱仪、真空镀膜、特种材料制备

• 化工 / 制药：腐蚀性气体、粉尘工艺的清洁真空