Osaka Vacuum （大阪真空） 精品原装

Osaka Vacuum （大阪真空） 精品原装

大阪真空 OSAKA TG203 涡轮分子泵（耐腐蚀化学型）

一、核心参数（标准型）

二、核心特性（化学型专属，区别 TG200）

1. 强耐腐蚀结构

   接液 / 流道做抗腐蚀涂层 + 耐蚀材料处理，耐受半导体刻蚀、清洗用Cl₂、F₂、HF、HCl、NH₃、SiH₄等腐蚀性工艺气体，防止泵体腐蚀、油污染、转子损坏株式会社大阪真空机器制作所。

2. 抗大气冲击 + 高耐用

   强化转子 / 叶片、轴承支撑，耐受突发破真空、大气冲入、频繁启停，比普通分子泵寿命更长、故障率更低，适配恶劣工业工况株式会社大阪真空机器制作所。

3. 耐冲击 + 稳定运行

   油润滑滚珠轴承，抗外部振动 / 冲击，适合离子源、电子枪、热处理、加速器等强振动 / 高负载场景株式会社大阪真空机器制作所。

4. 通信与运维

   标配RS232C 串行通信，支持远程启停、转速 / 压力监控、故障报警；TC203 控制器集成保护逻辑，过载 / 过热 / 低真空自动停机保护株式会社大阪真空机器制作所。

三、TG200 vs TG203 关键区别

四、前级泵配套建议

• 推荐前级：油封旋片泵（≥80L/min）或干式螺杆泵，确保背压稳定＜550Pa，避免过载、轴承磨损、停机风险

• 严禁小流量前级，否则易触发背压报警、降速、转子卡死

五、典型应用场景

• 半导体：刻蚀、清洗、沉积等含腐蚀气体制程真空系统

• 表面处理：离子注入、电子枪、镀膜、真空热处理

• 科研：加速器、辐射设施、核聚变、特种材料制备

• 工业：灯管 / 光学元件、FPD、电子元器件制造

六、选型 / 使用要点

1. 腐蚀气体必选TG203（3 后缀），严禁用 TG200

2. 法兰优先选CF100（高真空密封），VG100/ISO-R100 适配通用管路

3. 定期更换专用耐蚀润滑油、检查油位，延长轴承寿命