OSAKA 大阪真空 TGkine3300M‑R

一、核心参数（标准型）

二、核心优势（R 系列专属强化）

1. 3300L/s 黄金大流量

   适配12 英寸晶圆大型腔、大尺寸 FPD、高负载镀膜，快速建压、高工艺气体（Ar/N₂/H₂）持续排气能力强，兼顾效率与成本。

2. R 系列智能核心：内置记忆 + 高速通信

• 泵体自带非易失性存储，记录运行时长、轴承着陆次数、温度 / 转速历史、故障码，换控制器可无缝迁移数据，运维追溯极方便。

• 标配 EtherCAT：半导体产线实时控制、低延迟、多泵组网、自动化集成友好，支持远程监控 / 启停 / 调速株式会社大阪真空机器制作所。

• 可设定低速节能模式，适配低负载 / 待机工况，降低功耗、延长寿命。

3. 第三代磁悬浮 + 抗冲击结构

   全无油、零粉尘、无返流，满足 UHV + 半导体最高洁净；转子强化设计，耐受突发破真空、大气冲击、频繁启停，24h 连续稳定运行株式会社大阪真空机器制作所。

4. 超低振动 / 噪音

   五轴主动悬浮控制，无机械接触、无共振，适配电子束、离子源、精密检测、光学镀膜等对振动敏感的工况。

5. 节能紧凑

   同流量级功耗更低，机身优化，大型真空系统 / 集群布局友好。

三、TGkine‑R 3000 + 流量梯队

• TGkine3300M‑R：3300 L/s（本型号）

• TGkine3400M‑R：3400 L/s

• TGkine3800M‑R：3800 L/s

• TGkine4200M‑R：4200 L/s

四、前级泵硬性配套（必看）

五、典型应用场景

• 半导体：12 英寸晶圆 PVD/CVD/ 刻蚀 / 离子注入大型腔

• FPD / 面板：大尺寸 OLED/LCD 沉积、检测设备

• 镀膜：光学膜、卷绕镀膜、真空冶金、工具镀膜

• 科研：同步辐射、加速器、空间模拟器、大型 UHV 系统

• 工业：新能源、光伏、真空热处理、特种材料制备

六、与同系列关键区别（快速选型）