Osaka Vacuum（大阪真空） 涡轮分子泵
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Osaka Vacuum（大阪真空） 涡轮分子泵
Osaka Vacuum（大阪真空） 涡轮分子泵

OSAKA 大阪真空 TG450F（450 L/s 超大流量复合涡轮分子泵，任意安装、风冷 / 水冷双选、适配 12 寸 + 晶圆与大腔体）

一、核心性能参数（N₂ 标准，）

二、核心优势

1. 超大流量 + 极速启停：N₂抽速 450 L/s，较 TG350F 提升约 29%，适配 12 寸 + 晶圆与超大面板；2–2.5 分钟快速启动，显著缩短产线待机时间。

2. 双冷却 + 全场景适配：提供风冷 / 水冷可选，风冷免水冷安装灵活，水冷满足高热负荷与无尘室严苛环境，布局自由度更高。

3. 高可靠 + 低运维：无油设计零碳氢污染，耐受大气冲击与震动，2 万小时免维护，连续 24/7 稳定运行，降低综合成本。

4. 集成便捷：内置控制器，接线调试一步到位，支持 RS232 远程联动，适配自动化产线。

三、典型应用场景

• 半导体 / 微电子：12 寸 + 晶圆刻蚀、ALD/CVD、离子注入、电子束蒸发、先进封装大腔体排气。

• 显示面板：8K + 超大尺寸 FPD/OLED、量子点镀膜、真空烘烤。

• 科研装置：大型质谱仪、同步辐射光源、核聚变装置、加速器、辐射设施。

• 工业真空：光学镀膜、电子枪排气、精密热处理、真空钎焊。

四、选型与配套要点

• 前级泵匹配（必选）：优先莱宝 VARODRY VD160/VD200 干式螺杆泵（抽速≥160 L/min），确保前级压力 < 10 Pa，实现 500 sccm 最大流量与极限真空。

• 版本选择：标准 TG450F（洁净通用）；TG450F-M（耐化学腐蚀，适配 H₂、NH₃、SiH₄等腐蚀性气体）。

• 冷却选型：常规产线选风冷；高热负荷、无尘室或环境温度高时选水冷。

• 环境要求：运行温度 5–40℃，最佳 15–25℃；需控制环境洁净度，避免粉尘影响寿命。

五、TG450F vs TG350F 快速对比